Bundespatentgericht:
Beschluss vom 22. Dezember 2004
Aktenzeichen: 14 W (pat) 19/02

Tenor

Der angefochtene Beschluss wird aufgehoben und das Patent erteilt.

Bezeichnung: Maske und Verfahren zu ihrer Herstellung zum Belichten von flexographischen Platten Anmeldetag: 5. Juni 1997 Die Priorität der Anmeldung in den USA vom 5. Juni 1996 ist in Anspruch genommen (Aktenzeichen der Erstanmeldung: US 658 785).

Der Erteilung liegen folgende Unterlagen zu Grunde:

Patentansprüche 1 bis 22, eingegangen am 30. November 2004, Beschreibung Seiten 1 und 2, eingegangen am 30. November 2004, Beschreibung Seiten 3 bis 8, eingegangen am 14. September 2004, 2 Blatt Zeichnungen mit Figuren 1 bis 4, eingegangen am 5. Juni 1997.

Gründe

I Mit Beschluss vom 11. September 2001 hat die Prüfungsstelle für Klasse B41C des Deutschen Patent- und Markenamts die Patentanmeldung 197 23 618.9 - 51 mit der Bezeichnung

"Maske und Verfahren zum Belichten von flexographischen Platten"

zurückgewiesen.

Die Zurückweisung ist im Wesentlichen damit begründet, dass der Gegenstand des dem Beschluss zu Grunde liegenden ursprünglichen Patentanspruchs 1 gegenüber der Druckschrift

(1) US 4 283 484 nicht neu sei. Daraus sei eine Maske mit lichtdurchlässigen und lichtundurchlässigen Bereichen bekannt, die zum Belichten eines Bildbereichs auf einer ein Photopolymer aufweisenden Hochdruckplatte eingesetzt werde. Der Fachmann lese mit, dass eine solche Maske auch zur Belichtung von flexographischen Druckplatten einsetzbar sei. Zur Vermeidung von Druckbildverzerrungen werde die Maske um einen Lichtmodifizierer ergänzt und so die Belichtung der Druckplatte modifiziert.

Gegen diesen Beschluss hat die Anmelderin Beschwerde eingelegt. Sie verfolgt ihr Patentbegehren mit den im Tenor genannten Unterlagen weiter.

Die Patentansprüche 1 und 17 lauten:

"1. Maske in Form einer Schicht mit durchlässigen und undurchlässigen Bereichen für eine Anwendung beim Belichten eines Bildbereiches auf einer flexographischen Druckplatte mit abbildendem Licht, wobei die Platte (1) zum Ausbilden belichteter Bereiche ein auf abbildendes Licht ansprechendes Photopolymer aufweist, und unmittelbar in der Maskenschicht (5) ein Lichtmodifizierer (9) ausgebildet und/oder erzeugt worden ist, der relativ zu durchlässigen und undurchlässigen Bereichen zur Belichtungsmodifizierung und Kompensierung von Verzerrungseffekten angeordnet ist.

17. Verfahren zum Herstellen einer Maske nach einem der Ansprüche 1 bis 16 für eine photoempfindliche flexographische Platte mit einem Photopolymer zum Korrigieren von Verzerrungen, aufweisend:

a) Bestimmen von Strukturelementen (10, 11, 12), die eine Korrektur für eine Verzerrung oder Isolierung erforderlich machen; undb) Ausbilden von Lichtmodifizierern (9) in der Maske (5), die für die Korrektur erforderlich sind."

Die Ansprüche 2 bis 16 sind auf Weiterbildungen der Maske nach Anspruch 1 gerichtet; die Ansprüche 18 bis 22 gestalten das Verfahren zum Herstellen der Maske nach Anspruch 17 weiter aus.

Die Anmelderin hat zur Begründung ihrer Beschwerde schriftsätzlich vorgetragen, dass die nunmehr beanspruchte Maske in Form einer Schicht und das Verfahren zum Herstellen derselben nach den geltenden Ansprüchen 1 und 17 gegenüber dem Stand der Technik (1) neu sei und auch auf einer erfinderischen Tätigkeit beruhe, da dort mit praktisch zwei Masken gearbeitet werde.

Sie beantragt sinngemäß, den angefochtenen Beschluss aufzuheben und das Patent mit den im Beschlusstenor aufgeführten Unterlagen zu erteilen.

Wegen weiterer Einzelheiten, insbesondere wegen des Wortlauts der Ansprüche 2 bis 16 und 18 bis 22, wird auf den Inhalt der Akten verwiesen.

II 1. Die Beschwerde ist zulässig (§ 73 PatG); sie hat auch Erfolg.

2. Bezüglich der Offenbarung der Maske nach Anspruch 1 bestehen keine Bedenken, da deren Merkmale aus dem ursprünglich eingereichten Anspruch 1 iVm Seite 4 Absatz 2 der ursprünglichen Beschreibung herleitbar sind. Die geltenden Ansprüche 2 bis 5 sind aus den ursprünglichen Ansprüchen 2 bis 5 iVm S 7 Abs 2 der ursprünglichen Beschreibung herleitbar; die Ansprüche 6 bis 9 ergeben sich sinngemäß aus den ursprünglichen Ansprüchen 7, 8 und 19 iVm S 6 Abs 2 der ursprünglichen Beschreibung. Den geltenden Ansprüchen 10 bis 22 liegen die ursprünglichen Ansprüche 16, 13, 14 und 24 bis 33 zu Grunde.

3. Die Neuheit der Maske nach dem geltenden Patentanspruch 1 ist gegeben. In der Entgegenhaltung (1) ist keine Maske mit sämtlichen im Anspruch 1 aufgeführten Merkmalen beschrieben.

4. Die Maske in Form einer Schicht zum Belichten einer flexographischen Druckplatte beruht auch auf einer erfinderischen Tätigkeit.

Der Anmeldung liegt nach den Angaben von Seite 1, letzter Absatz der geltenden Unterlagen die Aufgabe zu Grunde, eine verbesserte Maske zu schaffen, um in der Lage zu sein, die ganze flexographische Platte mit einem einzigen Belichtungsvorgang zu belichten. Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Maske mit folgenden Merkmalen:

a) Die Maske in Form einer Schicht für eine Anwendung beim Belichten eines Bildbereiches auf einer flexographischen Druckplatte mit abbildendem Licht besitzt durchlässige und undurchlässige Bereiche, wobei die Druckplatte zum Ausbilden belichteter Bereiche ein auf abbildendes Licht ansprechendes Photopolymer aufweist;

b) unmittelbar in der Maskenschicht (5) ist ein Lichtmodifizierer (9) ausgebildet und/oder erzeugt worden, der relativ zu durchlässigen und undurchlässigen Bereichen zur Belichtungsmodifizierung und Kompensierung von Verzerrungseffekten angeordnet ist.

Die Entgegenhaltung (1) strebt wie die vorliegende Anmeldung an, bei einem Verfahren für die Herstellung einer Druckplatte, die hochauflösend sein soll und gute Druckqualitäten liefern soll, durch den Einsatz einer geeigneten Maske mit einem einzigen Arbeitsschritt auszukommen (Sp 1 Z 45 bis 58). Zur Lösung der Aufgabe wird dort vorgeschlagen, die Druckplatte dadurch zu erzeugen, dass eine Negativ-Maske des Druckbildes mit einer Positiv-Maske teilweise überlagert wird (Sp 2 Z 1 bis 4 iVm Ansp 1). Durch eine geeignete Ausformung oder Anordnung der Positiv-Maske modifiziert diese den Lichteinfall auf das Photopolymer durch die Negativ-Maske, dh sie übt die Funktion eines Lichtmodifizierers aus (Sp 2 Z 4 bis 12). Um die Registerhaltigkeit der übereinander angeordneten Masken sicherzustellen, werden in (1) verschiedene Methoden vorgeschlagen, wobei die beiden Masken auch zusammenlaminiert werden können (Sp 2 Z 26 bis 31). In jedem Fall liegen aber getrennte, übereinander gelagerte Schichten vor. Damit sind die Merkmale a. und b. gemäß vorstehender Merkmalsanalyse bei (1) nicht erfüllt.

Anregungen dahingehend, die Maske in Form einer Schicht auszubilden und den Lichtmodifizierer unmittelbar in der Maskenschicht vorzusehen, erhält der Fachmann aus (1) nicht.

Die von der Anmelderin selbst genannte US 5 262 275 geht nicht über den oben genannten Stand der Technik hinaus und vermittelt dem Fachmann somit keine weitergehenden Anregungen.

Nach alledem ist der Gegenstand des geltenden Patentanspruchs 1 gegenüber dem Stand der Technik neu und beruht auch auf einer erfinderischen Tätigkeit, so dass der Anspruch gewährbar ist.

Der nebengeordnete Anspruch 17 ist auf ein Verfahren zum Herstellen einer Maske für eine photoempfindliche flexographische Platte nach einem der Ansprüche 1 bis 16 gerichtet. Bezüglich Neuheit und erfinderischer Tätigkeit gelten für ihn die oben dargelegten Gesichtspunkte gleichermaßen, so dass dieser Anspruch ebenfalls gewährbar ist.

Das Gleiche gilt für die auf den Patentanspruch 1 rückbezogenen Ansprüche 2 bis 16 sowie für die auf den Patentanspruch 17 rückbezogenen Ansprüche 18 bis 22, die jeweils weitere, über Selbstverständlichkeiten hinausgehende Ausführungsformen betreffen.

Schröder Harrer Wagner Schuster Na






BPatG:
Beschluss v. 22.12.2004
Az: 14 W (pat) 19/02


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